浅析影响康普顿谱线位置的因素

大学物理 ›› 2007, Vol. 26 ›› Issue (3): 31-31.

浅析影响康普顿谱线位置的因素

罗光[1,2] 周上祺[1] 肖广渝[2] 陈双扣[3]

[1]重庆大学材料科学与工程学院,重庆400044 [2]重庆师范大学物理学与信息技术学院,重庆400047 [3]重庆科技学院生物化学工程学院,重庆400017

出版日期:2007-03-25 发布日期:2007-03-20

An analysis of the factors influencing the Compton line

Online:2007-03-25 Published:2007-03-20

摘要/Abstract

摘要： 康普顿散射中影响康普顿谱线位置的因素是十分复杂的，文章主要针对影响康普顿谱线位置的几个因素作了理论探讨，得出影响因素主要在于：电子具有初速度会增大散射波长的改变量；束缚能的存在要减小峰值波长的改变量；双光子散射和二次散射与谱线峰值位置的关系不大，二者对峰值波长的改变是不确定的、复杂的、在连续的范围内变化的．最后对康普顿谱线位置和康普顿轮廓的理论研究和应用前景作了展望．

关键词: 康普顿散射, 康普顿轮廓, 二次散射, 波长改变量

Abstract: The factors which influence the Compton line in Compton scattering are very complex. Those main factors are discussed, they include： the initial velocity can enlarge the changed wavelength; the bound energy could reduce the changed wavelength; the double Compton scattering and the Compton scattering which produces two photons change the changed wavelength, and the changed wavelength is uncertain, complex and continuous. At last the authors draw a conclusion and make a prospect for the research of the theory and its applications of Compton line and profile.

Key words: Compton scattering, Compton profile, double Compton scattering, changed wavelength

中图分类号:

O431

罗光[;] 周上祺[] 肖广渝[] 陈双扣[]. 浅析影响康普顿谱线位置的因素[J]. 大学物理, 2007, 26(3): 31-31.

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