扩展光源条件下迈克耳孙干涉图样的理论分析

doi:10.16854 /j.cnki.1000-0712.170564

大学物理 ›› 2018, Vol. 37 ›› Issue (8): 54-57.doi: 10.16854 /j.cnki.1000-0712.170564

扩展光源条件下迈克耳孙干涉图样的理论分析

黄磊，刘伟，史庆藩

北京理工大学物理实验中心，北京100081

收稿日期:2017-10-15 修回日期:2018-03-17 出版日期:2018-08-20 发布日期:2018-08-20
通讯作者: 刘伟，E-mail:liuwei73150@ bit.edu.cn
作者简介:黄磊(1996—)，男，江西赣州人，北京理工大学物理学院2015 级本科生.

Theoretical analysis of Michelson interference patterns under extended light source

HUANG Lei，LIU Wei，SHI Qing-fan

Center of Physics Experiments，Beijing Institute of Technology，Beijing100081，China

Received:2017-10-15 Revised:2018-03-17 Online:2018-08-20 Published:2018-08-20

摘要/Abstract

摘要： 针对扩展光源条件下的迈克耳孙干涉图样提出了一种新的分析方法.扩展光源发出的光，由于两反射镜的反射，存在对应光源的两个虚像，这两个虚像发出的光在光屏上的干涉与原光源发出的光经过分束镜、反射镜之后在光屏上形成等效的干涉.通过这种解释，可以更加清晰地理解实验过程中出现的圆、椭圆、曲线、直线等各种条纹.

关键词: 扩展光源, 迈克耳孙干涉仪, 干涉图样

Abstract: A new theoretical explanation is proposed for the Michelson interference pattern under the extended light source.The light emitted by the extended light source，due to the reflection of the two mirrors，there are two virtual images of the corresponding light source.The light emitted by the two virtual images is transmitted on the screen with the light from the original light source through the beam splitter，the screen forms an equivalent interference.Through this interpretation，we can more clearly understand the process of the process of the circle，oval，curve，straight lines and other stripes.

Key words: extended light source, Michelson interferometer, interference pattern

黄磊，刘伟，史庆藩. 扩展光源条件下迈克耳孙干涉图样的理论分析[J]. 大学物理, 2018, 37(8): 54-57.

HUANG Lei，LIU Wei，SHI Qing-fan. Theoretical analysis of Michelson interference patterns under extended light source[J]. College Physics, 2018, 37(8): 54-57.

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Theoretical analysis of Michelson interference patterns under extended light source

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